MX8R微分干涉工业检测显微镜
MX8R三目明暗场微分干涉工业检测显微镜配置了落射与透射照明系统、明暗场半复消金相物镜、内置偏光观察装置，具有图像清晰、衬度好，造型美观，操作方便等特点，配备了高性能DIC组件，可以将明场观察下无法检测的细微高低差，转化为高对比度的明暗差并以立体浮雕新式表现出来，广泛用于LCD导电粒子，精密磁盘表面划痕检测等领域
MX8R三目明暗场微分干涉工业检测显微镜配置了落射与透射照明系统、明暗场半复消金相物镜、内置偏光观察装置，具有图像清晰、衬度好，造型美观，操作方便等特点，配备了高性能DIC组件，可以将明场观察下无法检测的细微高低差，转化为高对比度的明暗差并以立体浮雕新式表现出来，广泛用于LCD导电粒子，精密磁盘表面划痕检测等领域
兼具稳定性和安全性，能够安全可靠的传送晶圆，适合于前道到后道工程的晶圆检查。拥有AWL046、AWL068两种机型，分别可适用于4/6英寸晶圆检测，6/8英寸晶圆检测，适应范围广、搭配灵活。可自由设置的检查模式，充分符合人机工程学设计，操作舒适、简便。